次世代フォトリソグラフィEUVについて解説しました。
EUVフォトリソグラフィ技術には様々な技術が集結していますが、今回はEUV光源を調べてみました。非常に難解です・・・。
動画を作成する際に下記のリンクを参考にしました。
・KOMATSU TECHNICAL REPORT
2016 VOL. 62 NO.169
半導体製造用短波長光源:エキシマレーザーからLPP‐EUV光源への挑戦
home.komatsu/j...
・日本貿易振興機構
10ナノの壁、極端紫外線(EUV)で乗り越える
www.jetro.go.j...
・オリンパス
顕微鏡の光学原理 ~顕微鏡の能力~
www.olympus-li...
・ウシオ電機
光技術情報誌「ライトエッジ」No.30(2008年3月発行)
4.これからの光源 4.1 EUV 光源
www.ushio.co.j...
#半導体
#フォトリソグラフィー
#極端紫外線
#EUV
#光
#電磁波
Негізгі бет 【フォトリソグラフィ】最先端の半導体露光装置が数ナノメートルの表面加工できる仕組み
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